Evolution du procédé de gravure
Le 24 octobre dernier, nous avons été conviés par Intel à venir découvrir l’architecture Penryn et ses nouveautés. L’une de ces nouveautés est justement l’introduction de la gravure en 45 nm, et pour l’occasion le procédé de fabrication nous à été présenté par Ann Kelleher qui n’est autre que la responsable de l’usine F24 située en Irelande. Je peux donc vous assurer que ce n’est pas n’importe qui et que l’on aurait difficilement pu trouver meilleur interlocuteur pour nous expliquer le bien fondé du processus de gravure à 45nm.Commençons par nous demander quel est l’intérêt pour Intel de passer au 45nm tout de suite ? Après tout, leurs processeurs en 65nm fonctionnent plutôt bien (c’est rien de le dire) et mettent sérieusement à mal la concurrence. Il semble cependant qu’Intel ai tiré les leçons de son attitude un peu trop attentiste lors des générations Pentium 4 et ai décidé cette fois-ci de s’imposer un calendrier strict et d’y tenir.
Ainsi, une nouvelle finesse de gravure devrait apparaitre tous les deux ans alors le 65nm étant apparu en 2005 il est donc logique de voir le 45nm pointer aujourd’hui le bout de son nez.
Second point important : produire le même processeur, sur le même Wafer mais avec une finesse de gravure plus petite permet bien sur d’en caser plus et donc de produire plus de processeur avec la même quantité de silicium. Le bénéfice en terme de productivité est évident et permet à Intel de rendre la production de ses processeurs moins onéreuse.
Dernier point important, cette nouvelle finesse de gravure introduit des nouvelles technologies. En des termes plus techniques sachez qu’auparavant Intel utilisait du dioxyde de silicium comme isolant pour fabriquer ses transistors et qu’aujourd’hui celui-ci est remplacé par un diélectrique High-K. Sans que l’on sache vraiment ce qui se cache derrière le High-K, je peux tout de même vous dire que ce nouvel isolant possède les mêmes propriétés électrique que son prédécesseur tout en se permettant le luxe d’être plus fin. Les nouveaux transistors gravés sur un die de Penryn le sont donc grâce à ce fameux High-K et même si çà ne vous parle pas plus que çà, selon Gordon Moore, il s’agit là d’une des avancées majeures dans la fabrication de transistors depuis 1960 !
Selon les prévisions d’Intel, l’approvisionnement de processeurs en 45nm depassera celui en 65nm d’ici au troisième trimestre 2008 et comme le futur est déjà en marche Intel à dores et déjà présenté un prototype de SRAM gravé en 32nm au dernier IDF en septembre dernier.
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